| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
| Site | mtc-m16d.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 8JMKD3MGP7W/37JTRG2 |
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2010/06.01.17.15 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2010:06.01.17.15.28 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2010/06.01.17.15.29 |
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.04.36.42 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE--PRE/ |
| DOI | 10.1016/j.surfcoat.2010.03.014 |
| ISSN | 0257-8972 |
| Chave de Citação | OliveiraGonçUedaRizz:2010:NeHiPl |
| Título | A new high-temperature plasma immersion ion implantation system with electron heating  |
| Ano | 2010 |
| Mês | June |
| Data de Acesso | 05 maio 2024 |
| Tipo Secundário | PRE PI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 567 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Oliveira, Rogério de Moraes 2 Gonçalves, José A. N. 3 Ueda, Mário 4 Rizzo, P. N. |
| Identificador de Curriculo | 1 8JMKD3MGP5W/3C9JJ6L 2 3 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB |
| Grupo | 1 LAP-CTE-INPE-MCT-BR 2 LAP-CTE-INPE-MCT-BR 3 LAP-CTE-INPE-MCT-BR 4 LAP-CTE-INPE-MCT-BR |
| Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
| Revista | Surface and Coatings Technology |
| Volume | 204 |
| Número | 18-19 |
| Páginas | 3009-3012 |
| Nota Secundária | B2_ASTRONOMIA_/_FÍSICA A1_ENGENHARIAS_II A2_ENGENHARIAS_III B1_ENGENHARIAS_IV A2_GEOCIÊNCIAS A1_INTERDISCIPLINAR A1_MATERIAIS B1_MEDICINA_II B2_QUÍMICA |
| Histórico (UTC) | 2010-07-05 14:54:45 :: simone -> marciana :: 2010 2011-04-13 22:57:13 :: marciana -> administrator :: 2010 2018-06-05 04:36:42 :: administrator -> marciana :: 2010 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Palavras-Chave | Plasma immersion ion implantation Oxide cathode Ion diffusion |
| Resumo | The temperature of the substrate has strong influence on the diffusion coefficient of nitrogen ions during plasma immersion ion implantation (PIII) performed in metallic surfaces, which affect the ion implantation profiles and can lead to the formation of thick implanted layers. In order to heat conveniently a large spectrum of metals and metallic alloys in vacuum and in the presence of plasma, as mandatory for efficient PIII, it is necessary to count on a stable heat source, able to provide steady temperatures in the range of 200 °C to more than 1000 °C. This has been accomplished in the current experiment by means of a thermionic cathode composed of a rolled tantalum foil covered with (Ba,Sr,Ca)O. Work-function of this electron source is around 2.1 eV, which is much lower than 4.5 eV of typically used tungsten filament. Metallic samples studied, in this case, are the anode of the discharge itself, being polarized during the heating cycle by positive DC voltages in the 100800 V range. They are implanted with negative pulses up to 10 kV/300 Hz/40 µs. |
| Área | FISPLASMA |
| Arranjo | A new high-temperature... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Idioma | en |
| Arquivo Alvo | a new high temperature.pdf |
| Grupo de Usuários | administrator marciana simone |
| Visibilidade | shown |
| Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft24 |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| Permissão de Atualização | não transferida |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Repositório Espelho | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02.53 |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS |
| Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES. |
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02 |
| 6. Notas | |
| Notas | The Tenth International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation and Deposition, São José dos Campos, SP, Brazil 07-11 September 2009 Edited by Joaquim J. Barroso and Mario Ueda |
| Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark nextedition orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup rightsholder schedulinginformation secondarydate session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marciana |
| atualizar | |