1. Identificação | |
Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
Site | mtc-m16d.sid.inpe.br |
Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
Identificador | 8JMKD3MGP7W/3APEKME |
Repositório | sid.inpe.br/mtc-m19/2011/11.09.16.32 (acesso restrito) |
Última Atualização | 2011:11.09.16.46.32 (UTC) valdirene |
Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m19/2011/11.09.16.32.01 |
Última Atualização dos Metadados | 2021:02.12.13.48.14 (UTC) administrator |
Chave Secundária | INPE--PRE/ |
DOI | 10.1109/TPS.2011.2163089 |
ISSN | 0093-3813 |
Chave de Citação | UedaKoOlSaMeFe:2011:BiAtSu |
Título | Biased Atmospheric, Sub-Atmospheric, and Low-Pressure Air Plasmas for Material Surface Improvements |
Ano | 2011 |
Data de Acesso | 08 maio 2024 |
Tipo Secundário | PRE PI |
Número de Arquivos | 1 |
Tamanho | 593 KiB |
|
2. Contextualização | |
Autor | 1 Ueda, Mario 2 Kostov, Konstantin Georgiev 3 Oliveira, Rogerio de Moraes 4 Savonov, Graziela da Silva 5 Mello, Carina Barros 6 Fernandes, Bruno Bacci |
Identificador de Curriculo | 1 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB 2 3 8JMKD3MGP5W/3C9JJ6L |
Grupo | 1 LAP-CTE-INPE-MCT-BR 2 3 LAP-CTE-INPE-MCT-BR 4 SMF-ETE-INPE-MCT-BR 5 LAP-CTE-INPE-MCT-BR 6 LAP-CTE-INPE-MCT-BR |
Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 2 Sao Paulo State Univ UNESP, Dept Chem & Phys, BR-12516410 Guaratingueta, SP, Brazil 3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
Revista | IEEE Transactions on Plasma Science |
Volume | 39 |
Número | 10 |
Páginas | 1998-2005 |
Nota Secundária | B3_ASTRONOMIA_/_FÍSICA B1_ENGENHARIAS_II B1_ENGENHARIAS_III A2_INTERDISCIPLINAR |
Histórico (UTC) | 2011-12-13 18:23:46 :: valdirene -> administrator :: 2011 2012-07-15 02:59:58 :: administrator -> valdirene :: 2011 2013-03-04 16:13:07 :: valdirene -> administrator :: 2011 2021-02-12 13:48:14 :: administrator -> valdirene :: 2011 |
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3. Conteúdo e estrutura | |
É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
Estágio do Conteúdo | concluido |
Transferível | 1 |
Tipo do Conteúdo | External Contribution |
Tipo de Versão | publisher |
Palavras-Chave | aerospace industry corrosion friction plasmas |
Resumo | This paper deals with some important aspects of recent research related to atmospheric, sub-atmospheric (SA), and low-pressure plasmas. It calls attention to the definition of the pressure ranges in which they are divided to avoid misconceptions in the literature. Pulsed bias applied to elements inside the plasma can lead to important effects such as ion implantation, nitriding, sputtering, heating, and diffusion, which can result in some of the effective applications in surface engineering such as plasma immersion ion implantation (PI3), plasma nitriding, magnetron sputtering, and so on. Electric fields are essential for the production of different types of plasma, either ac, dc, or pulsed ones, as seen in RF, self-sustained, glow, and high-voltage glow discharges, for example. The interrelation between the bias pulse, mean-free path, and Paschen law is examined, seeking for further improvement of processing of the material surface being used in many modern technologies. Results on PI3 in the low and near SA pressures, as well as their applications in metals, are also discussed. |
Área | FISPLASMA |
Arranjo 1 | urlib.net > LABAP > Biased Atmospheric, Sub-Atmospheric,... |
Arranjo 2 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > SESMF > Biased Atmospheric, Sub-Atmospheric,... |
Conteúdo da Pasta doc | acessar |
Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
Conteúdo da Pasta agreement | |
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4. Condições de acesso e uso | |
Idioma | en |
Grupo de Usuários | administrator valdirene |
Visibilidade | shown |
Política de Arquivamento | denypublisher allowfinaldraft |
Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
Permissão de Atualização | não transferida |
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5. Fontes relacionadas | |
Repositório Espelho | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02.53 |
Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS 8JMKD3MGPCW/446B55B |
Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX; IEEEXplore. |
Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02 |
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6. Notas | |
Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark month nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup rightsholder schedulinginformation secondarydate session shorttitle sponsor subject targetfile tertiarymark tertiarytype typeofwork url |
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7. Controle da descrição | |
e-Mail (login) | valdirene |
atualizar | |
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