Fechar

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemtc-m16d.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP7W/3APEKME
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m19/2011/11.09.16.32   (acesso restrito)
Última Atualização2011:11.09.16.46.32 (UTC) valdirene
Repositório de Metadadossid.inpe.br/mtc-m19/2011/11.09.16.32.01
Última Atualização dos Metadados2021:02.12.13.48.14 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE--PRE/
DOI10.1109/TPS.2011.2163089
ISSN0093-3813
Chave de CitaçãoUedaKoOlSaMeFe:2011:BiAtSu
TítuloBiased Atmospheric, Sub-Atmospheric, and Low-Pressure Air Plasmas for Material Surface Improvements
Ano2011
Data de Acesso08 maio 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho593 KiB
2. Contextualização
Autor1 Ueda, Mario
2 Kostov, Konstantin Georgiev
3 Oliveira, Rogerio de Moraes
4 Savonov, Graziela da Silva
5 Mello, Carina Barros
6 Fernandes, Bruno Bacci
Identificador de Curriculo1 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB
2
3 8JMKD3MGP5W/3C9JJ6L
Grupo1 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
2
3 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
4 SMF-ETE-INPE-MCT-BR
5 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
6 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Sao Paulo State Univ UNESP, Dept Chem & Phys, BR-12516410 Guaratingueta, SP, Brazil
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
RevistaIEEE Transactions on Plasma Science
Volume39
Número10
Páginas1998-2005
Nota SecundáriaB3_ASTRONOMIA_/_FÍSICA B1_ENGENHARIAS_II B1_ENGENHARIAS_III A2_INTERDISCIPLINAR
Histórico (UTC)2011-12-13 18:23:46 :: valdirene -> administrator :: 2011
2012-07-15 02:59:58 :: administrator -> valdirene :: 2011
2013-03-04 16:13:07 :: valdirene -> administrator :: 2011
2021-02-12 13:48:14 :: administrator -> valdirene :: 2011
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chaveaerospace industry
corrosion
friction
plasmas
ResumoThis paper deals with some important aspects of recent research related to atmospheric, sub-atmospheric (SA), and low-pressure plasmas. It calls attention to the definition of the pressure ranges in which they are divided to avoid misconceptions in the literature. Pulsed bias applied to elements inside the plasma can lead to important effects such as ion implantation, nitriding, sputtering, heating, and diffusion, which can result in some of the effective applications in surface engineering such as plasma immersion ion implantation (PI3), plasma nitriding, magnetron sputtering, and so on. Electric fields are essential for the production of different types of plasma, either ac, dc, or pulsed ones, as seen in RF, self-sustained, glow, and high-voltage glow discharges, for example. The interrelation between the bias pulse, mean-free path, and Paschen law is examined, seeking for further improvement of processing of the material surface being used in many modern technologies. Results on PI3 in the low and near SA pressures, as well as their applications in metals, are also discussed.
ÁreaFISPLASMA
Arranjo 1urlib.net > LABAP > Biased Atmospheric, Sub-Atmospheric,...
Arranjo 2urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > SESMF > Biased Atmospheric, Sub-Atmospheric,...
Conteúdo da Pasta docacessar
Conteúdo da Pasta sourcenão têm arquivos
Conteúdo da Pasta agreement
agreement.html 09/11/2011 14:32 1.0 KiB 
4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Grupo de Usuáriosadministrator
valdirene
Visibilidadeshown
Política de Arquivamentodenypublisher allowfinaldraft
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Repositório Espelhosid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02.53
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
8JMKD3MGPCW/446B55B
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX; IEEEXplore.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark month nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup rightsholder schedulinginformation secondarydate session shorttitle sponsor subject targetfile tertiarymark tertiarytype typeofwork url
7. Controle da descrição
e-Mail (login)valdirene
atualizar 


Fechar